【产品名称】1200℃气氛箱式炉
【炉膛容积】245L
【额定温度】1200℃
【控温精度】±1℃
【应用领域】1200℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
【产品名称】1200℃气氛箱式炉
【炉膛容积】245L
【额定温度】1200℃
【控温精度】±1℃
【应用领域】1200℃气氛箱式电阻炉主要为高等院校、科研院所、工厂企业等行业实验室提供高温热处理环境，可在应用于金属材料、陶瓷材料、纳米材料、半导体材料等新材料领域。
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