【产品名称】1200℃-PECVD管式炉系统
【炉管尺寸】φ40--φ100mm
【加热区】300mm/440mm
【额定温度】1200℃
【温度控制精度】±1℃
【应用】PECVD系统(等离子体增强化学气相沉积系统)由四个模块组成：管式炉、真空收集、流量控制和射频电源。该装置使用13.56Mhz射频输出使含有薄膜原子的气体电离。在真空室中形成等离子体，利用等离子体的强化学活性改善反应条件，使含有薄膜的气态物质发生化学反应，从而实现薄膜材料生长的新制备技术，最终在基膜上获得所需的沉积。
性能特点：
CVD管式炉系统由管式炉、真空收集、流量控制和射频电源组成
管式炉可选择不同的管径和恒温区长度。炉管两端设有高真空不锈钢密封法兰;
真空收集系统可根据试验要求选择不同的真空泵。旋片式机械真空泵的真空度为≤5pa，分子泵真空单元的真空度为1×10-4pa;
供气系统可选择三通浮子手动和三通自动质量流量系统
真空测量采用数字式复合真空机或皮拉尼真空计
等离子体放电采用13.56Mhz设备电源，输出功率可从200W、300W、500W中选择
管式炉可选择300mm和440mm单温区，也可选择三温区或多温区进行温度梯度试验
恒温器内置RS485数字通信端口和USB适配器为可选配置，可连接到PC进行远程控制和系统监控，也可保存或导出测试结果。
产品符合欧盟CE标准。