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CVD管式炉

CVD管式炉_1400℃ CVD管式炉

  【产品名称】1400℃-CVD管式炉

  【炉管尺寸】φ25--φ120mm

  【加热区】300mm

  【额定温度】1400℃

  【控温精度】±1℃

  【应用领域】化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或纳米材料的方法,是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术,包括大范围的绝缘材料,大多数金属材料和金属合金材料。

  一、 产品描述

  1400℃-CVD管式炉系列产品主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理,优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统,可保证实验数据的可靠性;产品采用新型陶瓷纤维材料作为炉膛材料,炉管材质优良,炉管两端不锈钢法兰密封,可在真空下工作,法兰上有进气口和出气口,可通入保护气体,精密针型阀可调节进气流量。

  二、产品特点

  1、 炉膛材料选用高纯氧化铝陶瓷纤维材料,新型拼装结构,高温不变形、坚固耐用

  2、 发热体采用硅碳棒,可承受负荷大,稳定且使用寿命长

  3、 炉管采用石英管,两端不锈钢法兰设计简单、合理、易拆卸,方便进出被烧结样品

  4、 升温速度快,从室温升到1400摄氏度,一般需要50分钟

  5、 采用智能PID温控仪表,控温精度高,冲温小,具有温度补偿和温度校正功能,精度为±1℃

  6、 控温仪表具有程序功能,可设定升温曲线,可编程序30段

  7、 一体式结构,外观专利设计,美观、大方

  8、 电子元器件均采用知名产品,带有漏电保护功能,安全可靠

  9、 本机对工作过程中的超温会发出报警信号,并自动完成保护动作

  10、当仪表程序设定完成后,只要按下运行按钮,接下来的工作会自动完成

  11、可选配大屏幕无纸记录仪,实现对升温曲线的实时记录,并带有存储卡可对实验数据进行分析和打印

  12、可选配气体质量流量计,通入气体可数字精确控制

标签:CVD管式炉
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